面對LED藍寶石晶片側邊腐蝕及圖形化襯底工藝的要求，SPMC與美國IMTEC 公司共同合作開發，向中國市場推出技術先進、工藝精湛的濕法高溫刻蝕設備。

    該設備的優勢如下：

    . 全自動的封閉系統，多重硬件和軟件保護，可視化UI控制介面；

    . 高產能的保證：配置1：224,000WPM(2"); 配置2：336,000WPM(2")； 

    . 極佳的兼容性：囊括了2"、4"、6"藍寶石晶片的制備，一次投資可適用不同產品的生產；

    . 精準、穩定的工藝控制： 

    溫度精度范圍：+/-2℃；  t刻蝕的均勻性：+/-5%以內；

    . 有溫度的動態監測和自動配酸、自動補液功能；

    . 化學品消耗量：化學品壽命長，2800片/換酸周期；

    . 設備運行可靠及安全性：

     tMBTF>1000hours;  tMTTR<4hours;  tUp time>95%